Fin a fuga de inventos mexicanos; Clau reformará a ley de patentes

Sheinbaum subrayó que las modificaciones incluirán un rediseño de los procesos y tiempos necesarios para obtener una patente, lo que permitirá acelerar la protección de innovaciones nacionales, muchas de las cuales actualmente tardan hasta cuatro años en ser aprobadas.

"Muchos inventos mexicanos, especialmente en áreas clave como la automotriz y la tecnológica, terminan siendo patentados fuera de México, debido a los largos procesos burocráticos. Este cambio es crucial para frenar esa fuga de conocimiento", afirmó la mandataria. Las reformas también contemplan ajustes a la ley de Ciencia y Tecnología, para fomentar un entorno más ágil y favorable para los inventores y desarrolladores nacionales.

Una de las iniciativas clave en este esfuerzo será la creación de un Centro de Diseño de Semiconductores, impulsado por la Secretaría de Ciencia, Innovación y Tecnología, en colaboración con instituciones de prestigio como el Instituto Nacional de Electrónica (INE), el Sistema Nacional de Investigadores (SIN), y la Universidad Nacional Autónoma de México (UNAM). Este centro tendrá como objetivo diseñar semiconductores de alta tecnología para la producción nacional, especialmente los de más de 65 nanómetros, fundamentales para la industria automotriz y tecnológica.